遮罩纹理-MaskTexture

遮罩纹理

//所谓的遮罩纹理和渐变纹理是类似的
//渐变纹理就是希望光照部分不要对所有的部分都一模一样 而是变换的
//遮罩纹理就是希望高光部分不要都一模一样 而是高光部分各有不同

Shader "QStudyShader/MaskTexture"
{
    
    Properties
    {
    
        _MainTex("Main Texture",2D) = "white"{
    }
        _BaseColor("Base Color",Color) = (1.0,1.0,1.0,1.0)
        _MaskTex("Mask Texture",2D) = "mask"{
    }
        _Gloss("Gloss",Range(8.0,200.0)) = 20.0
        _BumpMap("BumpMap",2D) = "Bump"{
    }
    }
    SubShader{
    
        Pass{
    
            Tags{
     "LightModel" = "ForwardBase"}
            CGPROGRAM
            #include "Lighting.cginc"
            #pragma vertex Vertex
            #pragma fragment Fragment
            struct a2v {
    
                float4 vertex : POSITION;
                float3 normal : NORMAL;
                float4 tangent : TANGENT;
                float4 texcoord : TEXCOORD0;
            };
            struct v2f {
    
                float4 pos : SV_POSITION;
                float2 uv : TEXCOORD0;
                float3 lightDir : TEXCOORD1;
                float3 viewDir : TEXCOORD2;
            };
            sampler2D _MainTex;
            sampler2D _BumpMap;
            fixed4 _BaseColor;
            float _Gloss;
            sampler2D _SpecularMask;
            v2f Vertex(a2v v) {
    
                v2f o;
                o.pos = UnityObjectToClipPos(v.vertex);
                TANGENT_SPACE_ROTATION;
                o.lightDir = mul(rotation, ObjSpaceLightDir(v.vertex)).xyz;
                o.viewDir = mul(rotation, ObjSpaceViewDir(v.vertex)).xyz;
                return o;
            }
            //所谓的遮罩纹理和渐变纹理是类似的
            //渐变纹理就是希望光照部分不要对所有的部分都一模一样 而是变换的
            //遮罩纹理就是希望高光部分不要都一模一样 而是高光部分各有不同
            fixed4 Fragment(v2f i) : SV_TARGET{
    
                fixed3 tangentLightDir = normalize(i.lightDir);
                fixed3 tangentViewDir = normalize(i.viewDir);
                fixed3 tangentNormal = UnpackNormal(tex2D(_BumpMap, i.uv));
                tangentNormal.z = sqrt(1.0 - saturate(dot(tangentNormal.xy, tangentNormal.xy)));
                //对主纹理进行混合
                fixed3 albedo = tex2D(_MainTex, i.uv).xyz * _BaseColor.xyz;
                //环境光混合
                fixed3 ambient = UNITY_LIGHTMODEL_AMBIENT.xyz * albedo;
                //漫反射
                fixed3 diffuse = _LightColor0.xyz * albedo * max(0, dot(tangentNormal, tangentLightDir));
                //半程向量 用于计算高光
                fixed3 halfDir = normalize(tangentLightDir + tangentViewDir);
                //遮罩纹理进行采样
                fixed3 specularMask = tex2D(_SpecularMask,i.uv).r;
                //和高光混合
                fixed3 specular = _LightColor0.xyz * specularMask * pow(max(dot(tangentNormal, halfDir), 0), _Gloss);
                return fixed4(diffuse + ambient + specular, 1.0);
            }
            ENDCG
        }
    }
}